批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備

簡(jiǎn)要描述：批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備為一種使用化學(xué)氣相沉積技術(shù)，可為沉積反應(yīng)提供能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比，可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會(huì)降低薄膜質(zhì)量。

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更新時(shí)間：2025-10-20
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沉積系統(tǒng)

便攜式樣品傳送腔體激光沉積系統(tǒng) 原子層沉積設(shè)備

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詳細(xì)介紹

品牌	其他品牌	應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,化工,電子/電池

批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備(Batch Type Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)為一種使用化學(xué)氣相沉積技術(shù)，可為沉積反應(yīng)提供能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比，可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會(huì)降低薄膜質(zhì)量。

此系統(tǒng)為專對(duì)派瑞林(Parylene)所設(shè)計(jì)，其腔體內(nèi)部具有公自轉(zhuǎn)知特性，並批量式生產(chǎn)。而Parylene薄膜具有高均勻性、高填孔特性、高穿透性…等特性?？蓱?yīng)用於光電元件封裝、電路板絕緣…等。

批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備參數(shù)：

應(yīng)用領(lǐng)域	腔體
醫(yī)療和商業(yè)產(chǎn)品的耐磨薄膜封裝、絕緣防刮顯示屏	客製化的腔體尺寸，取決於基板尺寸和其應(yīng)用通過使用水冷、水熱系統(tǒng)或加熱器來控制腔體溫度
配置和優(yōu)點(diǎn)	選件
客製化的基板多載片優(yōu)異的薄膜均勻性小於+-3% 精準(zhǔn)流量控制器，氣體分佈高度均勻使用電容式藕荷電漿(CCP)